米国領事館元職員のビザ不正発給事件で、共犯者を逮捕

2013/06/05 15:04 JST配信

 米警察当局はこのほど、在ホーチミン米国総領事館に勤務していた米国人の元職員が賄賂を受け取って、不正に非移民査証(ビザ)発給の便宜を図っていた事件に関連して、共犯者の女を逮捕した。2日付VNエクスプレスが報じた。

 元職員でビザ発給担当責任者のマイケル・T・シェスターク(42歳)は5月半ばに逮捕されている。シェスタークは米国総領事館に勤務していた2010年8月から2012年9月までの間、1件あたり5万~7万ドル(約504万~705万円)の賄賂を受け取って不正にビザを発給していた疑いを持たれている。受け取った賄賂の総額は数百万ドル(数億円)に上るとみられている。

 共犯者として逮捕されたのは、ホーチミン市に拠点を置くある多国籍企業の現地法人社長の妹で、米国で生まれ育ったホン・ボー容疑者(27歳)。同容疑者は2012年7月に別の共犯者との間で、ビザ取得のために賄賂を払う用意のある「顧客」についてメールを交わしていたとされる。この事件に関与している者はさらに複数いるとみられている。

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